Effect of implant angulation on possible misfit between implant and abutment - an experimental pilot study using two different measuring techniques

Abstract: Sammanfattning Syfte. Misfit kan uppstå mellan implantat och distans eller restoration. Om orsaker till misfit kan identifieras kan risker för tekniska komplikationer minimeras genom att tillhandhålla information om hur misfit kan undvikas. Syftet är att undersöka om misfit uppstår vid avtryckstagning på implantatnivå med vinklade implantat.Material och metod. Fyra mastermodeller med två implantat med följande inbördes vinklar; 0o, 10o, 20o och 30o framställdes. Fem avtryck på implantatnivå togs på respektive mastermodell med polyeter. Totalt 20 gipsmodeller framställdes. Kuldistanser monterades på master- och gipsmodell. Två mätmetoder användes för att mäta misfit; ImageJ (IJ) och digital mikrometer (DM). Samtliga modeller fotograferades och infördes i mätprogrammet ImageJ för mätning av avståndet mellan de yttersta punkterna på kuldistanserna. Samma avstånd mättes sedan med ett digital mikrometer. Misfit räknades ut genom differensen mellan mastermodell och gipsmodell i respektive grupp. One-way variansanalys och Tukey’s test användes för statistisk analys.Resultat. Operatör 1 erhöll störst misfit i IJ10°-gruppen och DM20°-gruppen och operatör 2 erhöll störst misfit i IJ30°-gruppen och DM0°-gruppen. Det finns en signifikant skillnad i 10°-gruppen för både operatörerna. (P <0,05).Slutsats. Denna studie visar inget linjärt samband mellan ökad vinkel på implantaten och misfit och det finns tydliga operatörsskillnader vid mätning. De två mätmetoderna är likvärdiga med undantag för 10o-gruppen.